• •  適用製程 

    • ‧ 顯影 / 去光阻 / 蝕刻 / 有機 / 去蠟機。
      ‧ 全自動 / 半自動 / 可選配PC base。
    
    
    手臂模式：
    

  • Wafer Size
    　2＂. 3＂. 4＂. 6＂. 8＂& 12＂
    ■ Cleaner
    　 ‧Pre-clean, RCA clean
    ■ Developer
    ■ Etcher
    　 ‧ FeOL: oxide, nitride, Si, poly,
    　　 At etch.
    　 ‧ BeOL: UBM etch
    ■ Stripper
    　 ‧ Dry film stripper
    　 ‧ Liquid film stripper
    　 ‧ Metal lift-off

MOCVD / 零件 / 矽晶片蝕刻清洗機 / 玻璃基板薄化蝕刻機

‧ 可同時清洗Aixton(德) / Veeco(美)MOCVD零件。
‧ 針對廠區內有多台MOCVD零件清洗設計。
‧ 高溫蝕刻製程200℃(去除有機金屬氧化物)。
‧ 全自動機台操作安全、清洗效率高、產能最大。

• 
  ‧ Processing Chambers with HEPA filter
  ‧ Variable glass size from 100mm ~ 1000mm
  ‧ PLC control system, parameter can be setup by user.
  ‧ Wet chemistry modules for process chemicals.
  ‧ Through put: 30 ~ 35min. per piece.
  ‧ No water traces, scrape(scratch), nick, breaking.
  ‧ Sway system: sway up and down with adjusted frequency.
  ‧ Safety device: Over heat protection alarm device and urgent
  stop device.
  ‧ Options: Mega sonic device, chemical auto supply unit, Air knife

•  適用製程 

  • ‧ 顯影 / 去光阻 / 蝕刻 / 有機 / 去蠟機。
    ‧ 全自動 / 半自動 / 手動機種提供選擇。
    ‧ 客製化設計。
    ‧ 可選配PC base。

• 
  ‧ Spinner System for Developing / stripper / cleaning
  　 applications for round substrates.
  ‧ φ1000mm and substrates/masks up to 850mm x 850mm
  　 (34＂x34＂).
  ‧ manual loading.

• •  適用製程 

    • ‧ Wet Pss (Pattern Sapphire Substrate)
      ‧ Sidewall Etch / L.B.R
      ‧ Sapphire surface texture
      ‧ Sapphire to grind etch cleaning

  •  特性 
    ‧ 製程溫度可達350℃。
    ‧ 全自動供酸／補酸／精密配酸。
    ‧ 環控流場式熱酸氣排放。
    ‧ 提供陶瓷遠紅外線及薄膜式加熱選擇。
    ‧ 線上補酸配比監控(option)。
    ‧ 可選配PC Base。

•  特點說明 

  • ‧ 洗淨各式零件。
    ‧ 蝕刻及洗淨晶圓。
    ‧ 操作簡便，成本低廉。
    ‧ 三段式昇降機構。
    ‧ 線性凸輪震盪。

 
‧ 轉速：10~9,000rpm±1rpm
‧ 最大加速度：30,000rpm/slc2
‧ 塗佈尺寸：2＂~8＂wafer

半導體晶片轉換 

◆ Wafer Size
　4＂. 6＂. 8＂& 12＂

• •  Features 

    • ‧ Ultra thin film spray coating-film thickness down to nm scale
      ‧ Dry film uniformity within 10%
      ‧ Liquid flow control range 2~225ml/min

  •  Application 
  • ‧ Photo resist coating for MEMS/GaAS/Touch panel sensor
    ‧ Solar cell doping
    ‧ Fuel cell coating